- 中文名：三乙硅烷基胺
- 英文名：Trisdisilanylamine
- CAS號：14635-45-1
- 純度：≥98.0%
- 用途：通過化學氣相沉積（CVD）或原子層沉積（ALD）形成含硅薄膜
- 規格：公斤級
- 中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
- 英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
- CAS號：2273763-87-2
- 純度：≥99.0%
- 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成高密度氧化硅
- 規格：公斤級
- 中文名：二異丙氨基乙硅烷
- 英文名：Diisopropylaminodisilane
- CAS號：151625-25-1
- 純度：≥99.0%
- 用途：通過氣相沉積形成晶種層
- 規格：公斤級
1，1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷 （DCDADS）
- 中文名：1，1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷
- 英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
- CAS號：2152681-89-3
- 純度：≥99.0%
- 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
- 規格：公斤級
- 中文名：五氯乙硅烷
- 英文名：Pentachlorodisilane
- CAS號：31411-98-0
- 純度：≥99.0%
- 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
- 規格：公斤級
- 中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
- 英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
- CAS號：78228-96-3
- 純度：≥99.0%
- 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
- 規格：公斤級
- 中文名：2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷
- 英文名：2，2，4，4-Tetrasilylpentasilane
- CAS號：1668602-96-7
- 純度：≥98.0%
- 用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
- 規格：公斤級
- 中文名：新戊硅烷
- 英文名：Neopentasilane
- CAS號：15947-57-6
- 純度：≥99.0%
- 用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
- 規格：公斤級
-
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